专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]原子层沉积装置及利用其的原子层沉积方法-CN201880096524.1有效
  • 崔鹤永;金栋元;金相勋;金根植 - 株式会社奈瑟斯比
  • 2018-11-27 - 2023-06-09 - C23C16/455
  • 根据本发明的用于在基板形成原子层的原子层沉积装置包括:基板移送部,用于安置基板,并向第一方向及与所述第一方向不同的第二方向移送所述基板;气体供应部,布置于通过所述基板移送部而移送的所述基板的上方,并且包括供应源气体的源气体供应模块、供应反应气体的反应气体供应模块、布置于所述源气体供应模块与所述反应气体供应模块之间的吹扫气体供应模块;以及气体供应管部,包括连接所述源气体供应模块和源气体供应源的源气体供应管、连接所述反应气体供应模块和反应气体供应源的反应气体供应管,其中,所述源气体供应模块及所述反应气体供应模块中的至少一个能够根据所述基板移送部的基板移送方向而改变对基板的气体供应方向。
  • 原子沉积装置利用方法
  • [发明专利]一种用于处理基板的装置和方法-CN201710160337.2在审
  • 金大民;朴素永;李茂贤 - 细美事有限公司
  • 2017-03-17 - 2017-09-29 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种用于用液体处理基板的装置和方法。所述基板处理装置包括用于支撑基板基板支撑单元、用于向支撑在基板支撑单元上的基板供应液体的液体供应单元、以及用于控制液体供应单元的控制器,其中,液体供应单元包括用于供应第一液体的第一喷嘴和用于供应第二液体的第二喷嘴,并且向基板供应第二液体的第二区域设置在向基板供应第一液体的第一区域内。供应作为疏水膜的第一液体和第二液体以彼此不同的方式排出。因此,可以根据各排出方法去除具有各种尺寸的颗粒。
  • 一种用于处理装置方法
  • [发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN201811138503.X有效
  • 李柱东 - 细美事有限公司
  • 2018-09-28 - 2023-03-28 - H01L21/67
  • 提供了一种用于供应液体的装置和方法。一种用于处理基板的装置,其包括:基板支承单元,其用于支承基板;和液体供应单元,其用于供应液体到由基板支承单元支承的基板。液体供应单元包括:喷嘴,其用于排出液体;液体供应管线,其用于供应液体至喷嘴;安装在液体供应管线上的恒压阀;安装在液体供应管线上并介于恒压阀和喷嘴之间的截止阀,其用于供应液体或停止供应液体;以及控制器,其用于控制恒压阀和截止阀
  • 用于处理装置方法
  • [发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN201710495929.X有效
  • 郑煐宪;闵忠基;曺守铉 - 细美事有限公司
  • 2017-06-26 - 2020-12-22 - H01L21/67
  • 提供了一种基板处理装置。该基板处理装置,包括:支撑单元,设置为支撑基板并旋转所述基板;处理液喷嘴,用于将处理液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板;预湿液喷嘴,用于将预湿液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板;和控制器,用于控制处理液喷嘴和预湿液喷嘴,其中,所述控制器控制所述处理液喷嘴和所述预湿液喷嘴,以进行用于将所述预湿液供应供到所述基板的预湿步骤,然后进行处理液供应步骤,所述处理液供应步骤用于将所述处理液供应到所述基板,并在所述处理液供应到所述基板的过程中,将预湿液供应到所述基板
  • 用于处理装置方法
  • [发明专利]流体供应装置-CN201810897240.4有效
  • 冯傳彰 - 辛耘企业股份有限公司
  • 2018-08-08 - 2020-12-08 - H01L21/67
  • 一种流体供应装置用以处理一基板基板包括一非平面区域。流体供应装置包括一流体供应单元和一气体供应单元。流体供应单元用以朝基板输出流体。气体供应单元位于流体供应单元的外侧,气体供应单元包括一气体输出部,气体输出部用以朝基板输出一第一气体。当流体供应单元朝基板输出流体时,会在非平面区域上形成一湿式工艺;当气体输出部朝基板输出第一气体,且第一气体沿着相对基板的一水平方向流动时,第一气体会在非平面区域上形成一移除工艺,以移除流体。
  • 流体供应装置
  • [发明专利]基板处理方法-CN202011388789.4在审
  • 陈光善;全镇晟;朴相俊;赵炳哲;权俊爀 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2020-12-02 - 2021-06-18 - H01J37/32
  • 根据本发明一观点的种基板处理方法,利用基板处理装置,基板处理装置包括:工艺腔室,在内部限定处理空间;基板支撑架,设置在工艺腔室以在上部安装基板;气体喷射部,在处理空间内向基板支撑架上供应工艺气体;远程等离子体发生器所述基板处理方法包括如下的步骤:在基板支撑架上安装基板;通过远程等离子体发生器将表面处理气体连续供应基板支撑架上的基板上;将吹扫气体连续供应基板支撑架上的基板上;对远程等离子体发生器供应等离子电源,以激活表面处理气体来供应基板上;及切断对远程等离子体发生器供应的等离子电源,将蚀刻气体供应基板支撑架上的基板上。
  • 处理方法
  • [发明专利]基板处理装置和方法-CN202010638897.6在审
  • 洪俊杓;李承培;李奇英 - 细美事有限公司
  • 2020-07-06 - 2021-01-12 - H01J37/32
  • 提供了基板处理装置。基板处理装置包括基板支承部、等离子体生成部和电力供应部,其中:基板支承部支承基板,并且能够通过静电力固定基板;等离子体生成部生成用于使基板的电荷放电的放电用等离子体;电力供应部向基板支承部和等离子体生成部供应电力,其中,电力供应部向等离子体生成部在使基板的电荷放电时供应具有波动图案的电力。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]利用喷墨头的药液供应方法-CN201910275560.0有效
  • 李东润;张润玉;郑在训 - 细美事有限公司
  • 2019-04-08 - 2022-01-18 - B05B12/08
  • 本发明提供一种药液供应方法,其利用包括中心部分与分别具有第一部分及第二部分的周边部分的喷墨头,可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应基板上,从第一部分以第二药液供应量将药液供应基板上,从第二部分以第三药液供应量将药液供应基板上可以将喷墨头在基板的上部移动相当于周边部分的长度的量。可以从中心部分以第一药液供应量将药液供应基板上,从第一部分以第二药液供应量将药液供应基板上,从第二部分以第三药液供应量将药液供应基板上。本发明的药液供应方法能够有效防止在所述基板的邻接的区域的边界因所述药液而可能发生的界面湍动现象,能够在所述基板上均匀地形成所需的薄膜。
  • 利用喷墨药液供应方法
  • [发明专利]自动饲料供应基板供水装置及方法-CN201380003394.X有效
  • 金基柱 - 金基柱
  • 2013-03-21 - 2014-07-09 - A01K7/02
  • 本发明涉及自动饲料供应基板供水装置及方法,其中,饲料从饲料储藏库通过上部供应管11供应供应机上部的饲料供应箱20内部,并且从所述上部的饲料供应箱20接收到饲料,从而供应到最下部的供应基板30,供水管80以另外管道的形式设置在所述供应基板上部,从而一起供应水与饲料。其特征如下:所述供应基板包括水的深度浅的平面部31和水的深度深的凹陷部32,并且在所述供水管上部设置有瓣膜阀门,供水管80下部设置在供应基板30的凹陷部32。本发明具有如下显著的效果:通过瓣膜阀门在供应基板内始终维持一定的水位,适度地供应所要供应的水,从而防止水的浪费,因此减少废水、防止饲料浪费、节省管理人力。
  • 自动饲料供应供水装置方法

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